誘電体薄膜形成材
特長
当社はゾルゲル法、スパッタ法の各種成膜方法に応じた、高・強誘電体の薄膜材料を取り扱っております。誘電体膜のあらゆる用途/成膜法に対応致します。
用途
- SAWフィルタ
- FeRAM
- High-K
- MEMS
- コンデンサ
- 各種センサなどの誘電体膜
- メモリーのキャパシタ材料
製品仕様・概要
関連製品
- Pb(Zr,Ti)O3PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)
- (Pb,La)(Zr,Ti)O3PLZT(チタン酸ジルコン酸ランタン鉛)
- Bi4Ti3O12(非鉛系のチタン酸ビスマス)
この製品に関するお問い合わせ
会社代表03-3660-1658
受付時間:
- 10:00~17:00(土日祝、当社休日は除く)
東京以外のお問い合わせ先はこちら